টাংস্টেন স্পুটারিং টার্গেট
3. সৌর কোষের জন্য লক্ষ্য উপকরণ
(1) সাধারণভাবে ব্যবহৃত লক্ষ্য উপকরণ: অ্যালুমিনিয়াম/তামা/মলিবডেনাম/ক্রোমিয়াম/ITO/Ta এবং অন্যান্য লক্ষ্যবস্তু সাধারণত সৌর কোষে ব্যবহৃত হয়।
(2) ব্যবহার: প্রধানত "উইন্ডো স্তর", বাধা স্তর, ইলেক্ট্রোড এবং পরিবাহী ফিল্ম ইত্যাদিতে ব্যবহৃত হয়।
(3) কর্মক্ষমতা প্রয়োজনীয়তা: উচ্চ প্রযুক্তিগত প্রয়োজনীয়তা এবং অ্যাপ্লিকেশনের বিস্তৃত পরিসর।
W Sputtering লক্ষ্যবস্তু
4. তথ্য সংরক্ষণের জন্য লক্ষ্য উপকরণ
(1) সাধারনভাবে ব্যবহৃত টার্গেট ম্যাটেরিয়াল: তথ্য স্টোরেজের জন্য সাধারণত ব্যবহৃত টার্গেট ম্যাটেরিয়ালের মধ্যে রয়েছে কোবাল্ট/নিকেল/লোহার মিশ্র/ক্রোমিয়াম/টেলুরিয়াম/সেলেনিয়াম এবং অন্যান্য উপকরণ।
(2) ব্যবহার: এই ধরনের লক্ষ্য প্রধানত চৌম্বকীয় মাথা, মধ্যম স্তর এবং অপটিক্যাল ড্রাইভ এবং অপটিক্যাল ডিস্কের নীচের স্তরগুলির জন্য ব্যবহৃত হয়।
(3) কর্মক্ষমতা প্রয়োজনীয়তা: উচ্চ স্টোরেজ ঘনত্ব এবং উচ্চ সংক্রমণ গতির জন্য উচ্চতর প্রয়োজনীয়তা রয়েছে।
5. টুল পরিবর্তনের জন্য লক্ষ্য উপকরণ
(1) সাধারণত ব্যবহৃত লক্ষ্য উপকরণ: টাইটানিয়াম/জিরকোনিয়াম/ক্রোমিয়াম অ্যালুমিনিয়াম খাদ এবং অন্যান্য লক্ষ্য উপকরণগুলি সাধারণত টুল পরিবর্তনের জন্য ব্যবহৃত হয়।
(2) ব্যবহার: সাধারণত পৃষ্ঠ শক্তিশালীকরণের জন্য ব্যবহৃত হয়।
(3) কর্মক্ষমতা প্রয়োজনীয়তা: উচ্চ কর্মক্ষমতা প্রয়োজনীয়তা এবং দীর্ঘ সেবা জীবন.
ডব্লিউটিআই
6. ইলেকট্রনিক ডিভাইসের জন্য লক্ষ্য উপকরণ
(1) সাধারণত ব্যবহৃত লক্ষ্য উপকরণ: অ্যালুমিনিয়াম খাদ/সিলিসাইড লক্ষ্যবস্তু সাধারণত ইলেকট্রনিক ডিভাইসে ব্যবহৃত হয়
(2) ব্যবহার: সাধারণত পাতলা ফিল্ম প্রতিরোধক এবং ক্যাপাসিটর ব্যবহার করা হয়.
(3) কর্মক্ষমতা প্রয়োজনীয়তা: ছোট আকার, স্থিতিশীলতা, এবং প্রতিরোধের ছোট তাপমাত্রা সহগ।
