অতি-লো কার্বন ফেরোসিলিকন
⒌অপারেটিং শর্তাবলী
যদি অপারেশনটি অনুপযুক্ত হয়, যেমন অসম মেশানো, উপকরণের আংশিক সংযোজন এবং সময়মতো চুল্লি নাড়াতে ব্যর্থতা। চুল্লির অবস্থা আঠালো, উপাদানের স্তর খুব বেশি বা চুল্লিতে উপাদানের অভাব, ইত্যাদি, যা চুল্লি উপাদানে ইলেক্ট্রোড সন্নিবেশের গভীরতা এবং স্থায়িত্বকে বাধা দেবে।
⒍আয়রন ট্যাপ করার সময়
চুল্লির স্বাভাবিক অবস্থার অধীনে, যদি লঘুপাতের ব্যবধান বাড়ানো হয় বা গলিত লোহা পরিষ্কার না হয়, তবে অনিবার্যভাবে চুল্লিতে আরও গলিত লোহা জমা হবে, ইলেক্ট্রোড উঠবে এবং ইলেক্ট্রোডটি অগভীরভাবে চার্জে ঢোকানো হবে।
কম টাইটানিয়াম (উচ্চ বিশুদ্ধতা) ফেরোসিলিকন
⒎ চুল্লিতে জমে থাকা স্ল্যাগের পরিমাণ
স্ল্যাগ স্রাব ভাল না হলে, চুল্লিতে অত্যধিক স্ল্যাগ জমা হবে, চুল্লির নীচের অংশটি উঠবে এবং ইলেক্ট্রোডের সন্নিবেশ গভীরতা অগভীর হয়ে যাবে।
উচ্চ-সিলিকন ফেরোসিলিকন
⒏ ইলেক্ট্রোডের মধ্যে মেরু কেন্দ্রের বৃত্তের ব্যাস
একই ক্ষমতা সহ একটি নিমজ্জিত আর্ক ফার্নেসের জন্য, যখন মেরু কেন্দ্রের বৃত্তের ব্যাস বড় হয়, তখন ইলেক্ট্রোডগুলির মধ্যে দূরত্ব বেশি হয়, চার্জের প্রতিরোধ ক্ষমতা বৃদ্ধি পায় এবং ইলেক্ট্রোডটি চার্জের গভীরে প্রবেশ করানো হয়। বিপরীতভাবে, যখন মেরু কেন্দ্রের বৃত্তের ব্যাস ছোট হয়, তখন ইলেক্ট্রোডের সন্নিবেশ গভীরতা অগভীর হয়ে যায়।
