Jan 24, 2024 একটি বার্তা রেখে যান

একটি sputtering লক্ষ্য কি?

টাংস্টেন স্পুটারিং টার্গেট ফ্যাক্টপ্রি
 

 

ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং নীতি:

স্পুটারড টার্গেট (ক্যাথোড) এবং অ্যানোডের মধ্যে একটি অর্থোগোনাল চৌম্বক ক্ষেত্র এবং বৈদ্যুতিক ক্ষেত্র যোগ করা হয় এবং উচ্চ ভ্যাকুয়াম চেম্বারে প্রয়োজনীয় নিষ্ক্রিয় গ্যাস (সাধারণত আর গ্যাস) পূর্ণ হয়। স্থায়ী চুম্বক লক্ষ্যবস্তুর পৃষ্ঠে 250 থেকে 350 ডিগ্রি কোণ গঠন করে। গাউসিয়ান চৌম্বক ক্ষেত্র এবং উচ্চ-ভোল্টেজ বৈদ্যুতিক ক্ষেত্র একটি অর্থোগোনাল ইলেক্ট্রোম্যাগনেটিক ক্ষেত্র গঠন করে। বৈদ্যুতিক ক্ষেত্রের প্রভাবের অধীনে, আর গ্যাস ধনাত্মক আয়ন এবং ইলেকট্রনে আয়নিত হয়। লক্ষ্যে একটি নির্দিষ্ট ঋণাত্মক উচ্চ ভোল্টেজ প্রয়োগ করা হয়। লক্ষ্য থেকে নির্গত ইলেকট্রন চৌম্বক ক্ষেত্রের দ্বারা প্রভাবিত হয় এবং কার্যকারী গ্যাসের আয়নকরণের সম্ভাবনা বৃদ্ধি পায়, ক্যাথোডের কাছে একটি উচ্চ-ঘনত্বের প্লাজমা তৈরি করে। লরেন্টজ বলের ক্রিয়াকলাপের অধীনে Ar আয়নগুলি লক্ষ্য পৃষ্ঠের দিকে ত্বরান্বিত হয় এবং লক্ষ্য পৃষ্ঠের উপর খুব উচ্চ গতিতে বোমাবর্ষণ করে, যার ফলে লক্ষ্যে থাকা পরমাণুগুলি ভরবেগ রূপান্তর নীতি অনুসরণ করে এবং উচ্চ গতিশক্তির সাথে লক্ষ্য পৃষ্ঠ থেকে দূরে উড়ে যায়। ফিল্ম সাবস্ট্রেট উপর জমা হয়.

 

80 WTi

80% টাংস্টেন স্পুটারিং টার্গেট
 

ম্যাগনেট্রন স্পটারিং সাধারণত দুই প্রকারে বিভক্ত: ডিসি স্পুটারিং এবং রেডিও ফ্রিকোয়েন্সি স্পুটারিং। ডিসি স্পুটারিং সরঞ্জামের নীতিটি সহজ, এবং ধাতু স্পটার করার সময় এর গতিও দ্রুত হয়। রেডিও ফ্রিকোয়েন্সি স্পুটারিং-এর একটি বিস্তৃত পরিসর রয়েছে। পরিবাহী পদার্থ ছিটকে দেওয়ার পাশাপাশি, এটি অ-পরিবাহী উপকরণগুলিও ছিটকে দিতে পারে। এটি অক্সাইড, নাইট্রাইড এবং কার্বাইডের মতো যৌগিক উপাদান প্রস্তুত করতে প্রতিক্রিয়াশীল স্পুটারিংও করতে পারে। রেডিও ফ্রিকোয়েন্সি বাড়ানো হলে, এটি মাইক্রোওয়েভ প্লাজমা স্পুটারিং হয়ে যায়। বর্তমানে, ইলেক্ট্রন সাইক্লোট্রন রেজোন্যান্স (ইসিআর) টাইপ মাইক্রোওয়েভ প্লাজমা স্পুটারিং সাধারণত ব্যবহৃত হয়।

9995 Tungsten Sputtering Target Supplier

80% W স্পুটারিং টার্গেট

অনুসন্ধান পাঠান

বাড়ি

ফোন

ই-মেইল

অনুসন্ধান